Intel hat in Rio Rancho, New Mexico, sein Chipwerk um zwei Milliarden Dollar erweitert. Die neue Ausbaustufe mit der Bezeichnung Fab 11X wird vorerst Chips mit 130 Nanometer-Prozesstechnologie auf 300 Millimeter Wafern erzeugen. Bereits im Jahr 2003 soll der Umstieg auf den 90 Nanometer-Prozess erfolgen. Das Werk verfügt über rund 20.000 Quadratmeter Reinraum-Produktionsanlagen. Investieren "Diese Erweiterung ist die Umsetzung unserer festen Überzeugung, dass wir auch in ökonomisch schwierigen Zeiten weiterhin in neue Produkte und Produktionsanlagen investieren müssen", erklärte Intel-Chef Paul Otellini zur Eröffnung des Werks. Durch die Verwendung von 300 Millimeter Wafer steigt die Chipausbeute pro Silizium-Scheibe um 240 Prozent. Damit lassen sich bei selber Chipanzahl 48 Prozent der flüchtigen organischer Lösungsmitteln einsparen und der Wasserverbrauch sinkt um 42 Prozent. (pte)