Startschuss für Dresdner Infineon-Werk

4. Juni 2002, 11:43
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Gemeinsam mit AMD und DuPont wird in Belichtungsmasken-Produktion investiert

Dresden - Die Chip-und Elektronik-Firmen Infineon, AMD und DuPont Photomasks Inc haben am Dienstag in Dresden den Startschuss für ein neues gemeinsames Werk gegeben. Die drei Firmen wollen gemeinsam für rund 360 Mill. Euro in Dresden ein hochmodernes Werk errichten, das so genannte Belichtungsmasken für die nächste Halbleitergeneration entwickeln und die Pilotproduktion übernehmen soll, teilten Vertreter der Unternehmen bei der Grundsteinlegung mit.

Teil des Gesamtvorhabens ist auch ein neues Werk zur Großmengenproduktion derartiger Photomasken von DuPont Photomasks auf dem Dresdner Gelände, in das dieses Unternehmen weitere 170 Mill. Euro investieren will. Insgesamt belaufen sich damit die Investitionen für die beiden Photomasken-Projekte in Dresden auf über 500 Mill. Euro in den nächsten fünf Jahren. Dadurch sollen rund 370 neue Arbeitsplätze entstehen. Die neuen Fabriken befinden sich in unmittelbarer Nähe der Dresdner Chip-Werke von AMD und Infineon.´

Infineon zieht sich aus Eigenentwicklung von Masken zurück

Das neue Maskenzentrum wird getragen von der gemeinsamen Gesellschaft Advanced Mask Technology Center (AMTC), an der die drei Unternehmen zu gleichen Teilen beteiligt sind. Bei den Masken handelt es sich um Quarz- und Glasplatten, mit denen Chip-Hersteller Schaltmuster für Siliziumscheiben, so genannt Wafer, übertragen.

Mit dem Dresdener Vorhaben will sich Infineon, die derzeit ein eigenes Maskenhaus mit 230 Mitarbeitern in München betreiben, aus der Eigenentwicklung von Masken zurückziehen. Davon verspricht sich das Unternehmen Kostenvorteile. Infineon und auch AMD haben mit DuPont Photomasks vereinbart, dass dieses Unternehmen ihr strategischer Lieferant für lithographische Masken wird. Mit dem Vorhaben in Dresden wird die Elb-Metropole ihre Bedeutung als wichtiger Standort der Chip-Industrie ausbauen. (APA/Reuters)

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